云南护角专用胶厂 卡尔蔡司申请聚焦粒子束诱处理利, 提光刻物体处理率

国知识产权局信息显示云南护角专用胶厂云南护角专用胶厂，卡尔蔡司SMT有限责任公司、卡尔蔡司（上海）管理有限公司申请项名为“聚焦粒子束诱处理的法、设备和计机程序”的利，公开号CN121477543A，申请日期为2025年7月。

利摘要显示，种用于光刻的物体的聚焦粒子束诱处理的法、设备和计机程序，所述法包括提供蚀刻气体，提供水蒸气，泡沫板橡塑板专用胶以及提供氧化物质。蚀刻气体经由供应装置以供应压力提供，并且水蒸气经由二供应装置以二供应压力提供，并且二供应压力是供应压力的至少5。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于三数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

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